公司动态【COMPANY NEWS】
当前位置:网站四川11选5官方网站 > 中岳动态 > 公司动态
- PVD真空镀膜的技术参数
- 来源:http://www.robergaez.com发布日期:2015-04-29 11:42 浏览次数:
PVD真空镀膜的技术参数
模具镀钛,各种模具电镀混合涂层,真空离子镀膜(PVD)是广泛应用的工业超硬薄膜技术,以其高硬度、低磨损率、低磨擦系数、强抗腐蚀性、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。多年来,本厂以其独具特色的服务理念赢得客户的一致认同,本公司在真空离子镀方面拥有多年的生产实战经验,现已广泛推行应用的功能性薄膜包括:氮化钛(TiN), 氮化铬(CrN), 氮化铝钛(TiAlN), 氮碳化钛(TiCN), 氮碳化铬(CrCN)。
- 上一篇:PVD、CVD、PCVD技术现状及发展趋势
- 下一篇:铜加工 铜表面处理 铜绿处理厂